基于Verilog-A的LDMOS器件建模方法的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、LDMOS器件具有耐高壓、驅(qū)動能力強和易與 CMOS工藝技術兼容等優(yōu)點,因而在開關電源、汽車電子、工業(yè)控制、家用電器等領域得到了廣泛的應用。近年來,對LDMOS模型的研究逐漸增多,但相比于常規(guī)的MOS器件,LDMOS在應用中所觀察到的一些特殊的物理現(xiàn)象使其建模相對困難。因此,建立準確的LDMOS器件模型顯得非常重要。
  本課題通過對LDMOS器件結構和物理特性進行分析,在物理推導的基礎上,采用近似方法處理,建立半經(jīng)驗的緊湊型模型

2、。為了將更多精力用于建模本身而非過多關注仿真器的接口問題,縮短模型開發(fā)周期,本文用Verilog-A語言來實現(xiàn)LDMOS模型。
  本文工作主要有以下幾點:
  1、介紹了LDMOS模型的概況、器件建模語言的發(fā)展歷史以及Verilog-A語言建模的優(yōu)點。
  2、考慮到模型的實現(xiàn)方法,分析了器件建模語言 Verilog-A的結構和實現(xiàn)過程,包括語法結構、模型加載、輸入數(shù)據(jù)處理、中間數(shù)據(jù)計算和模型運算等。以一個0.18

3、um25 V BCD工藝為例,闡述了LDMOS器件的結構和工藝流程,重點介紹了LDMOS器件區(qū)別于普通MOS器件的橫向雙擴散溝道以及漂移區(qū)結構,并在此基礎上詳述了LDMOS工作于高壓狀態(tài)時的一些特殊的物理現(xiàn)象,例如準飽和效應和自加熱效應。
  3、在分析了LDMOS特殊效應的基礎上,通過物理推導和近似處理,建立半經(jīng)驗的LDMOS模型,包括準飽和效應模型和自加熱效應模型。LDMOS建模難點在于漂移區(qū)建模,漂移區(qū)在柵極電壓和漏極電壓都

4、很小時,電阻幾乎不變,可看做常數(shù)電阻,隨著柵極電壓和漏極電壓增大,漂移區(qū)電阻隨之變化,可將漂移區(qū)等效為一個受柵極電壓和漏極電壓控制的受控電阻。對自加熱效應,則采用熱阻熱容網(wǎng)絡模型,并在此基礎上加以簡化,主要考慮熱阻對電流的影響。對于建好的LDMOS模型,在BSIM4的Verilog-A模型的基礎上,修改源代碼,加入準飽和效應模型和自加熱效應模型。最后,用模型提取軟件MBP(Model Builder Program)對LDMOS模型進行

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