集成電路布圖設計侵權認定研究.pdf

1、進入21世紀，以信息技術、生物技術和新能源技術為代表的高科技產業(yè)迅速發(fā)展，已成為推動世界經濟的最主要力量。特別是集成電路產業(yè)的崛起，不僅引起了現(xiàn)代信息技術的發(fā)展，而且為現(xiàn)代高科技產業(yè)注入了新鮮活力。時至今日，如何開發(fā)更先進的集成電路，已經成為各國廠商所矚目的焦點。與此同時，如何完善集成電路的法律保護，也已成為各國政府和法學界所關注的重點課題之一。研制集成電路的過程主要集中在集成電路布圖設計，布圖設計應該說是決定集成電路成敗的關鍵，其創(chuàng)作

2、所需技術、成本、時間及資金都體現(xiàn)在該環(huán)節(jié)中。在激烈的集成電路技術競爭中，布圖設計往往是投資者競相追逐的最有價值對象。因此，近年來，侵犯集成電路布圖設計權的糾紛成為集成電路行業(yè)中最為普遍的現(xiàn)象。然而，與此對應的，司法實踐中集成電路布圖設計侵權的認定卻十分稀缺。為了更好的維護集成電路布圖設計者的合法權益，加強對布圖設計的法律保護，我們有必要對集成電路布圖設計侵權認定進行深入研究。
　　 首先，集成電路布圖設計侵權行為主要包括復制侵權

3、和商業(yè)利用侵權。實踐中，布圖設計侵權認定的困難主要集中在非法復制的認定方面。對此，本文將布圖設計侵權行為與其他相關知識產權侵權行為進行比較分析，力圖尋找集成電路布圖設計侵權行為本身的特點，從而為獲得集成電路布圖設計侵權的判斷標準做鋪墊。
　　 其次，美國是最先立法對集成電路布圖設計進行保護的國家，之后日本、歐共體及國際組織也通過各種形式相繼制定了集成電路布圖設計保護法。本文對集成電路布圖設計侵權判斷標準的論述中，借鑒了美、日等其

4、他域外司法實踐的經驗，對實質性相似的標準及獨創(chuàng)性的標準進行了全面且深入的理解與分析。
　　 之后，集成電路布圖設計的侵權抗辯，體現(xiàn)了集成電路布圖設計保護體系的完善。同其他知識產權法律保護一樣，集成電路布圖設計保護既強調給予創(chuàng)作者以合理的專有權保護，同時又對專有權以合理的限制。就具體的立法規(guī)定，多數國家對其歸納了五個方面：即反向工程、合理使用、善意侵權、強制許可和權利用盡。
　　 最后，根據以上理論研究的分析，本文提出了完