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文檔簡介
1、隨著電子器件向小型化和輕便化方向發(fā)展,基于柔性襯底的透明導電薄膜將成為硬質襯底透明導電薄膜的更新換代產品,因此引起人們越來越多的關注。ZnO,一種具有高激子束縛能(60meV)的寬直接帶隙半導體,由于其透明導電性,無毒,廉價,原材料豐富等優(yōu)點,被認為是具有廣闊應用前景的透明導電材料。本論文在系統(tǒng)總結國內外柔性透明導電薄膜的基礎上,利用磁控濺射和原子層沉積(ALD)方法,在柔性塑料襯底上制備了具有疊層結構和納米陣列結構的ZnO透明導電薄膜
2、。并對透明導電薄膜的電學性能,光學性能及微觀形貌進行了研究。主要內容包括:
1.銦(In)層的厚度對ZnO/In/ZnO疊層透明導電薄膜的電學性能和光學性能的影響;
2.銅(Cu)層厚度對鋁摻雜氧化鋅(AZO)/Cu/AZO疊層透明導電薄膜的電學性能和光學性能的影響及疊層薄膜的彎曲性能;
3.在表面具有蛾眼結構的柔性塑料襯底上,制備具有陣列結構的AZO透明導電薄膜,研究濺射和ALD方法對薄膜表面
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