高動態(tài)目標的瞬態(tài)散射分析.pdf

1、目標的瞬態(tài)散射特性分析，是研究目標對入射信號的時域響應，是實現(xiàn)目標成像、識別及追蹤的基礎。研究涂覆目標的瞬態(tài)散射特性可為目標的隱身及反隱身技術提供重要參考依據(jù)。針對超高速及旋轉復雜目標的電磁散射特性研究更是現(xiàn)代雷達目標成像、追蹤識別的必備技術。本文將主要針對涂覆目標與超高速及旋轉復雜目標的瞬態(tài)散射特性問題開展研究，所做的主要工作和成果如下：
　　1）針對導體目標的瞬態(tài)散射問題，分別選取二階B樣條函數(shù)和五階Lagrange插值函數(shù)的

2、微分作為展開感應電流的時域基函數(shù)，對比研究了它們數(shù)值結果的穩(wěn)定性及準確性。
　　2）針對導體涂覆目標的瞬態(tài)散射問題，開發(fā)了兩種基于時域積分方程（TDIE）的計算方法。第一種是使用“薄層近似”法，把涂覆層等效成體電流和體磁流，它們都可以近似地用導體表面上的電流來表示，因此只需求解導體表面上物理電流。第二種方法是使用“時域阻抗邊界條件”法，該方法把涂覆表面上的等效磁流用等效電流來表示，最后需要求解的是介質表面等效電流。數(shù)值結果驗證了這