集成電路制造工藝教案_第1頁
已閱讀1頁,還剩75頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、名師精編 精品教案四川信息職業(yè)技術學院教 案課程編碼: 0231124 課程名稱: 集成電路制造工藝 課程性質: 必修課 總學時/學分: 64/4 授課專業(yè): 微電子技術 授課教師:

2、 王志強 使用學期: 2012 —2013 學年第 1 學期 教研室審批意見及時間: 名師精編 精品教案課程授課學時安排表 課程授課學時安排表班號 班號/周次 周次 編 號 1 2單元或項目名稱 單元或項目名稱 計劃 計劃學時 學時 備注 備注1 1 緒論Ⅰ 2 理論課2 1 緒論Ⅱ 2 理論課3 1 硅晶圓片制造技術—硅及材料;單晶硅材料; 2 理論課4 2

3、硅晶圓片制造技術—晶圓加工成形 2 理論課5 2 硅外延生長 2 理論課6 2 物質形態(tài)及材料屬性工藝用化學品 2 理論課7 3 玷污的類型及玷污與控制 2 理論課8 3 硅片濕法清洗 2 理論課9 3 集成電路測量學及質量測量 2 理論課10 4 硅片的質量分析設備 2 理論課11 4 集成電路芯片制造工藝概述Ⅰ 2 理論課12 4 集成電路芯片制造工藝概述 Ⅱ 2 理論課13 5 氧化技術—Si02 及掩蔽作用; 2 理論課1

4、4 5 氧化技術—熱氧化及熱氧化生長動力學; 2 理論課15 5 氧化技術——氧化速率及雜質再分布 2 理論課16 6 擴散機構及雜質濃度分布; 2 理論課17 6 常用雜質的擴散方法 2 理論課18 6 擴散層參數(shù)測量和質量分析 2 習題課19 7 半期考試 理論課20 7 光刻技術—光刻工藝要求及光刻膠 2 理論課21 7 光刻技術—光刻工藝Ⅰ 2 理論課22 12 光刻技術—光刻工藝Ⅱ及質量分析 2 理論課23 12 刻蝕—濕法刻

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論