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1、鍍膜技術(shù)十個(gè)主要問(wèn)題及答案鍍膜技術(shù)十個(gè)主要問(wèn)題及答案問(wèn)題:一、一、鍍膜技術(shù)可區(qū)分為那幾類鍍膜技術(shù)可區(qū)分為那幾類可區(qū)分為:(1)真空蒸鍍(2)電鍍(3)化學(xué)反應(yīng)(4)熱處理(5)物理或機(jī)械處理二、二、常用的真空泵浦有那幾種常用的真空泵浦有那幾種適用的抽氣范圍為何適用的抽氣范圍為何真空泵浦可分:(1)機(jī)械幫浦(2)擴(kuò)散泵浦(3)渦輪泵浦(4)吸附泵浦(5)吸著泵浦真空泵浦抽氣范圍:泵浦抽氣范圍機(jī)械泵浦101~104毫巴擴(kuò)散泵浦103~106
2、毫巴渦輪泵浦103~109毫巴吸附泵浦103~104毫巴吸著泵浦104~1010毫巴三、三、電漿技術(shù)在表面技術(shù)上的應(yīng)用有那些電漿技術(shù)在表面技術(shù)上的應(yīng)用有那些1)濺漿沉積:濺鍍是利用高速的離子撞擊固體靶材,使表面分子濺離并射到基材鍍成一層薄膜,濺射離子的起始動(dòng)能約在100eV。常用的電漿氣體為氬氣,質(zhì)量適當(dāng)而且沒(méi)有化學(xué)反應(yīng)。(2)電漿輔助化沉積:氣相化學(xué)沉積的化學(xué)反應(yīng)是在高溫基材上進(jìn)行,如此才能使氣體前置物獲得足夠的能量反應(yīng)。(3)電漿聚
3、合:聚合物或塑料薄膜最簡(jiǎn)單的披覆技術(shù)就是將其溶劑中,然后涂布于基板上。電漿聚合涂布法系將分子單體激發(fā)成電漿,經(jīng)化學(xué)反應(yīng)后形成一致密的聚合體并披覆在基板上,由于基材受到電漿的撞擊,其附著性也很3.鍍鋁或鉭于絕緣物當(dāng)電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗氧化性,耐溫達(dá)1100OC,可應(yīng)用須耐高溫環(huán)境的工件,如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。6.離子蒸鍍鍍鋁,系以負(fù)高電壓加在被鍍件
4、上,再把鋁加熱蒸發(fā),其蒸氣經(jīng)由電子撞擊離子化,然后鍍到鋼板上。7.鍍鋁于膠膜,可供裝飾或標(biāo)簽,且鍍膜具有金屬感等。最大的用途就是包裝,可以防潮、防空氣等的滲入。8.機(jī)械零件或刀磨具鍍硬膜(TiC、TiN、Al2O3)這些超硬薄膜不但硬度高,可有效提高耐磨性,而且所需厚度剪小,能符合工件高精度化的要求。9.特殊合金薄片之制造。10.鍍多層膜于鋼板,改善其性能。11.鍍硅于CdS太陽(yáng)電池,可增加其效率。12.奈米粉末之制造,鍍于冷基板上,使
5、其不附著。六、TiN氮化鈦鍍膜具有那些特點(diǎn)氮化鈦鍍膜具有那些特點(diǎn)有以下的優(yōu)點(diǎn):(1)抗磨損(2)具亮麗的外觀(3)具安全性,可使用于外科及食品用具。(4)具潤(rùn)滑作用,可減少磨擦。(5)具防蝕功能(6)可承受高溫七、CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)步驟可區(qū)分為那五個(gè)步驟化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)步驟可區(qū)分為那五個(gè)步驟(1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來(lái),以擴(kuò)散機(jī)制傳輸基板表面。理想狀況下,前置物在基板上的濃度是零,亦即在基板上立刻反應(yīng),實(shí)際上并非如
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