Cu-,2-O納米復合膜的制備及應用研究.pdf

1、復合材料是由兩種或兩種以上性質不同的納米材料通過物理和化學復合，組成具有兩個或兩個以上相態(tài)結構的材料。該類材料不僅性能優(yōu)于組成中的任意一個單獨的材料，而且還可具有單獨組分不具有的獨特性能。 Cu2O是一種P型半導體，其直接禁帶寬度為2．0eV，在制氫、超導、太陽能電池和電極材料方面有重要應用。它也被用于可見光降解有機污染物。本論文研究了Cu2O與其它半導體即TiO2和CdS形成的復合材料的性質及其應用。論文主要包括二部分內容：1

2、.Cu2O與TiO2組成復合材料，并用噴涂法在玻璃表面制成TiO2—Cu2O復合膜。該復合膜被用于降解有機廢水；2.制備了Cu2O/CdS薄膜，并初步研究了該復合膜在太陽能電池中的應用。 在第一部分內容中，采用電化學方法制備了TiO2—Cu2O納米復合材料，并用噴涂法在玻璃表面制成TiO2—Cu2O復合膜。用正交設計法研究了TiO2—Cu2O復合膜與Fe2++EDTA構成的Fenton試劑在可見光照射下催化降解亞甲基蘭的性能，并

3、用實驗證實了H2O2存在。結果顯示，TiO2—Cu2O復合膜光催化降解性能明顯優(yōu)于TiO2膜和Cu2O膜?；趦r帶理論對TiO2—Cu2O復合材料的光催化作用機理進行了探討，并用XPS數(shù)據(jù)證實了Ti3+的存在，為機理提供了實驗依據(jù)。 在第二部分內容中，采用化學水浴法制備了CdS膜和Cu2O/CdS薄膜。XRD測試結果表明：CdS和Cu2O都為立方晶體結構。XPS數(shù)據(jù)進一步證明了XRD測試結果。由透射光譜可計算出CdS薄膜的禁帶寬