晶圓表面形貌的微分干涉系統(tǒng)圖像相位提取及去包裹.pdf

1、表面形貌測(cè)量在工業(yè)產(chǎn)品自動(dòng)檢測(cè)、機(jī)械制造、電子工業(yè)、機(jī)器人視覺(jué)等領(lǐng)域有著極大的作用。對(duì)晶圓表面形貌測(cè)量的在線檢測(cè)，成為半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中極其重要的一環(huán)。
　　本文在對(duì)表面微觀形貌測(cè)試技術(shù)發(fā)展動(dòng)態(tài)進(jìn)行深入調(diào)研的基礎(chǔ)上，將激光偏振干涉、顯微技術(shù)和相移技術(shù)相結(jié)合，構(gòu)建了晶圓微觀表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。利用此測(cè)量系統(tǒng)，采集圖像得到多幅相移干涉圖，由相位提取算法進(jìn)行相位提取并進(jìn)行表面形貌重構(gòu)，并對(duì)圖像表面進(jìn)行相位去包裹處理，最終實(shí)現(xiàn)晶圓表面形貌的測(cè)

2、量。
　　本文首先研究了微分相移干涉測(cè)量系統(tǒng)的基本原理，包括相移干涉原理和移相方法，完成了測(cè)量系統(tǒng)總體方案設(shè)計(jì)。然后重點(diǎn)介紹了采集圖像處理方法，如何進(jìn)行相位提取算法，以及可能出現(xiàn)的圖像包裹現(xiàn)象和針對(duì)這種現(xiàn)象的響應(yīng)處理算法。
　　最后對(duì)實(shí)驗(yàn)采集到五幅干涉圖采用線性相移誤差不敏感的五步相位提取算法進(jìn)行處理，得到了樣品表面形貌。然后用相位質(zhì)量圖去包裹算法對(duì)得到樣品表面形貌圖像進(jìn)行質(zhì)量分析和相位去包裹處理。
　　相位去包裹算法