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文檔簡介
1、該文利用橢圓偏振光譜技術(shù)并輔助其它測量手段,對氧化銀、氮化鎵和氮化碳三種光學(xué)薄膜的結(jié)構(gòu)、光學(xué)和光致發(fā)光性質(zhì)作了深入研究,并用宏觀物理模型對實驗結(jié)果進行了分析和解釋.還利用實驗室研制的磁光克爾系統(tǒng)對Ag(3nm)/TbFeCo(50nm)雙層膜在短波長區(qū)的磁光克爾增強效應(yīng)進行了測量和分析.主要內(nèi)容如下:1.利用德國Ley-bold公司的LAB600-SP磁控濺射系統(tǒng),采用反應(yīng)濺射的方法,在不同氧分壓比Po(O<,2>/(O<,2>+Ar)
2、)條件下制備了一系列的Ag<,x>O薄膜樣品.所有樣品均在真空中進行退火處理,并在真空中自然冷卻至室溫.利用X射線衍射譜(XRD)、X射線光電子譜(XPS)、和橢圓偏振光譜(SE)對退火前后所有Ag<,x>O樣品進行了分析.2.利用LPMOCVD多步生長工藝在晶向(0001)的藍寶石(Al<,2>O<,3>)襯底上制備了厚度為1.5±0.5μm的高質(zhì)量GaN薄膜樣品.在GaN/Al<,2>O<,3>樣品的XRD譜中出現(xiàn)了兩個尖銳的衍射峰
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