納米孿晶鎳鍍層在含氯離子溶液中的腐蝕性能研究.pdf

1、采用脈沖電鍍技術制備了納米孿晶鎳(NT)鍍層,并以腐蝕性能為標準,應用正交實驗設計優(yōu)化了脈沖電鍍參數(shù)。結果表明:當正向脈沖平均電流密度為1.5 A/dm2,占空比為20％,頻率為250 Hz時,所得的鎳鍍層的耐腐蝕性能最好。采用透射電子顯微鏡(TEM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、電化學阻抗譜技術(EIS)研究了植酸對鍍層顯微結構和形貌以及腐蝕性能的影響。結果表明:植酸促進了晶粒中納米孿晶的生長,改變了表面沉積的微觀形貌,且提高了鍍層的耐

2、腐蝕性能。
　　 采用X射線光電子能譜儀(XPS)、零電荷電位測試(pzfc)技術和計時安培法研究了納米孿晶結構對鎳表面生成的鈍化膜的化學成分、氯離子吸附性能和鈍化膜成核和生長機制的影響。結果表明,與工業(yè)電解鎳(IE)相比,在納米孿晶鎳鍍層上生成的鈍化膜更完整,更致密,表面更不容易吸附氯離子;納米孿晶結構沒有改變鈍化膜的形核方式,均為三維形核,但卻使鈍化膜平行生長速率增加。
　　 采用動電位極化曲線和電容測試技術研究了納

3、米孿晶結構對鎳耐局部腐蝕性能及其鈍化膜的半導體性能的影響。結果表明,與工業(yè)電解鎳相比,納米孿晶鎳具有更優(yōu)異的耐點蝕性能,表面鈍化膜具有內(nèi)層p型/外層n型的雙層半導體結構。應用Mott-Schottky(M-S)關系和點缺陷模型(PDM)分析了鈍化膜中的空位密度和空位擴散系數(shù)。結果表明,納米孿晶結構降低了空位在鈍化膜中的擴散速率,促使鈍化膜生長地更薄更致密。
　　 最后采用納米壓痕技術研究了納米孿晶結構對鎳納米力學性能的影響。結果