EVOH-納米SiO2高阻隔包裝材料的制備、結(jié)構(gòu)及其性能.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、產(chǎn)品在貯存、運(yùn)輸?shù)攘魍ㄟ^程中常會受到各種不利因素的破壞和影響，采用合理的包裝可使產(chǎn)品免受或減少這些影響。通過高阻隔材料包裝產(chǎn)品可實(shí)現(xiàn)對包裝內(nèi)氣體成分及含量的控制，從而有效地延長產(chǎn)品的保質(zhì)期，因此高阻隔材料成為最為重要的功能包裝材料之一。
　　本課題對EVOH/納米SiO2高阻隔包裝材料的制備、結(jié)構(gòu)及其性能進(jìn)行了研究，主要內(nèi)容有：在復(fù)合剪切力場下，用化學(xué)沉淀法制備了納米SiO2，并對產(chǎn)品進(jìn)行了表征；采用不同共混法制備了EVOH/納米

2、SiO2復(fù)合材料，研究了加工工藝(共混工藝和吹膜工藝)，通過對復(fù)合材料的表征，分析了加工工藝對制備高阻隔包裝膜結(jié)構(gòu)與性能的影響；用不同的偶聯(lián)劑和聚合物接枝改性納米SiO2，并與EVOH復(fù)合制備復(fù)合材料，研究了復(fù)合材料的界面結(jié)構(gòu)，并討論了界面結(jié)構(gòu)與其性能之間的關(guān)系；在較佳的加工工藝和納米 SiO2改性方法下制備了 EVOH/納米SiO2復(fù)合材料的膜材和板材，系統(tǒng)的對膜材和板材進(jìn)行了表征，并對其進(jìn)行紫外輻照處理，分析了紫外輻照處理對復(fù)合膜的

3、影響；在振動力場下加工EVOH/納米SiO2復(fù)合膜，分析振動力場下加工高阻隔材料對其結(jié)構(gòu)與性能的影響。
　　結(jié)果表明：在復(fù)合剪切力場下制備的納米SiO2的形貌近似球形、平均粒徑為19.5 nm且分布較窄，原位改性的效果良好；合理的加工工藝改善了 EVOH/納米 SiO2復(fù)合材料薄膜結(jié)構(gòu)的有序程度和結(jié)晶形態(tài)等，使薄膜的性能得到明顯提高；溶液共混法制備的復(fù)合材料，納米SiO2在EVOH中的分散性較熔融共混法好；聚合物接枝改性和偶聯(lián)劑改

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