微納波導光柵及其制造技術研究.pdf

1、Bragg光柵結構因其對特定波長良好的選擇反射作用，而在日益增長的光纖通信系統，尤其是波分復用系統中，得到越來越廣泛的應用。它被廣泛用來制作光學濾波器、半導體激光器、光纖傳感器等光電子器件，器件的性能很大程度上決定于內置Bragg光柵的質量。自Bragg光柵的概念提出后，探尋簡便、低成本加工的方法就一直沒有停止過。
　　 納米壓印作為一種新的微納圖形結構加工方法，具有高分辨率、低成本、高產量和操作簡便等一系列優(yōu)點，應用前景廣闊。

2、本文以分布反饋半導體激光器和DBR型可調諧半導體激光器為研究對象，圍繞基于納米壓印技術制作激光器波導光柵展開了一系列的研究和探索。具體工作如下：
　　 （1）簡要介紹了Bragg光柵的結構特點和基本理論，概述了包括激光全息曝光和電子束光刻在內的，傳統微納光柵加工工藝。
　　 （2）詳細介紹了納米壓印加工技術，包括其典型的工藝流程和對工藝過程中所用壓印模版、壓印膠等材料的要求等。
　　 （3）通過引入一個中間軟模版