CoW磁性薄膜的微觀結構表征及其磁各向異性.pdf

1、信息時代的今天，磁記錄是主要的存儲手段。隨著計算機及網絡技術的發(fā)展，人們需要越來越高的數據存儲密度，垂直磁記錄介質是實現(xiàn)超高密度垂直磁存儲的重要一環(huán)。Co-W合金由于具有較高的磁晶各向異性能，有望成為下一代高密度磁記錄介質材料，因而得到廣泛的關注。
　　本文通過磁控濺射技術制備了系列不同成分與厚度的Co-W合金薄膜，并利用X-射線衍射技術和振動樣品磁強計(VSM)對薄膜的微觀結構、生長取向及磁性能進行了研究，探討了晶體結構與磁晶各

2、向異性能之間的關系，揭示了磁性層磁晶各向異性能的主要影響因素。獲得了如下主要研究結果:
　　(1)在具有hcp結構的Ru下底層上實現(xiàn)了hcp結構Co基薄膜的外延取向生長，MgO(111)//Ru(00·2)//Co-W(00·2)具有良好的取向附生關系。Omega掃描和Φ掃描結果表明Co-W薄膜成膜質量良好。
　　(2)隨著磁性層薄膜厚度的增加，Co(00·2)衍射峰強度逐漸增強，且衍射峰位向左稍有偏移。隨著W含量的增加，C

3、o(00·2)峰明顯向衍射角減小的方向移動。
　　(3)外延生長薄膜中產生的原子堆垛層錯主要為生長層錯，且生長層錯α密度均低于10％，堆垛層錯中沒有變形層錯存在。生長堆垛層錯密度和fcc/hcp體積百分數基本保持恒定，不隨Co-W磁性薄膜的成分和厚度而變化。
　　(4)隨著W含量的增加，飽和磁化強度Ms單調降低，由純Co的1400emu/cc降低到14％W時的500emu/cc。
　　(5) Co-W薄膜的晶格常數a和