化學(xué)工藝流程題匯總

1、19.碳酸鈉是造紙、玻璃、紡織、制革等行業(yè)的重要原料。工業(yè)碳酸鈉（純度約98％）中含有Ca2、Mg2、Fe3、Cl和SO等雜質(zhì)，提純工藝路線(xiàn)如下：?24碳酸鈉的溶解度（S）隨溫度變化的曲線(xiàn)如下（1）濾渣的主要成分為。（2）“趁熱過(guò)濾”的原因是。（3）在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行“趁熱過(guò)濾”，可采取的措施是。（寫(xiě)一種）（4）若“母液”循環(huán)使用，可能出現(xiàn)的問(wèn)題及其原因是。（5）Na2CO310H2O(s)=Na2CO3(s)10H2O(g)ΔH=532.3

2、6kJmol1Na2CO310H2O(s)=Na2CO3H2O(s)9H2O(g)ΔH=473.63kJmol1寫(xiě)出Na2CO3H2O脫水反應(yīng)的熱化學(xué)方程式。23.（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式。②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平

3、的化學(xué)反應(yīng)方程式。H2還原SihCl3過(guò)程中若混02，可能引起的后果是。（2）下列有頭硅材料的詳法正確的是（填字母）。A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水混B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點(diǎn)很高D.鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅(3)硅酸鈉水溶液俗稱(chēng)水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋。提供的試劑：飽和N

4、a2CO3溶液飽和K2CO3溶液NaOH溶液BaCl2溶液Ba(NO3)2溶液75%乙醇四氯化碳①欲除去溶液Ⅰ中的Ca2、Mg2、Fe3、SO42離子，選出a所代表的試劑，按滴加順序依次為（只填化學(xué)式）。②洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為。⑵用提純的NaCl配制500mL4.00molL1NaCl溶液，所用儀器除藥匙、玻璃棒外還有（填儀器名稱(chēng)）。⑶電解飽和食鹽水的裝置如圖所示，若收集的H2為2L，則同樣條件下收集的

5、Cl2(填“＞”、“＝”或“＜”)2L，原因是。裝置改進(jìn)后，用于制備N(xiāo)aOH溶液。測(cè)定溶液中NaOH的濃度的方法是。⑷實(shí)驗(yàn)室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng)：Zn＋H2SO4====ZnSO4＋H2↑MnO2＋4HCl(濃)△MnCl2＋Cl2↑＋2H2O據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置（填代號(hào)）?？蛇x用制備氣體的裝置：27明礬石組成和明礬相似，含有氧化鋁和少量氧化鐵雜質(zhì)。實(shí)